Lösungen für die höchsten Ansprüche
Die Halbleiterindustrie verlangt höchste Prozesssicherheit, chemische Beständigkeit und zuverlässigen Umgang mit kritischen Medien. Reinstwasser, aggressive Chemikalien und abrasive Slurries erfordern robuste, platz- und reinraumoptimierte Lösungen, die zuverlässig funktionieren.
Die Halbleiterindustrie stellt höchste Anforderungen an Prozesssicherheit, chemische Beständigkeit und den zuverlässigen Umgang mit kritischen Medien. Besonders Reinstwasser, aggressive Chemikalien und korrosive Slurries erfordern robuste Lösungen, die auch unter engen Reinheits- und Platzvorgaben zuverlässig funktionieren.
Wir unterstützen unsere Kunden bei der sicheren Medienführung in Nassprozessen, der konstanten Versorgung mit Reinstwasser und Prozesschemikalienmedien sowie bei der Planung wirtschaftlicher Versorgungssysteme. Unsere Ventil-, Mess- und Regeltechnik ermöglichen eine partikelarme Prozessführung, hohe Materialbeständigkeit und eine präzise Regelung. So schaffen wir die Grundlage für stabile und reproduzierbare Abläufe in sensiblen Fertigungsumgebungen.
Die Versorgung mit Reinstchemikalien ist in der Hightech-Produktion essenziell für Qualität und Prozesssicherheit. Aggressive Medien in Reinigungs- und Ätzprozessen stellen hohe Anforderungen an Materialbeständigkeit und Reinheit. Von der Chemikalienmischung bis zur Ableitung (Drain) sind zuverlässige Systeme entscheidend für eine stabile und effiziente Fertigung.
In Halbleiterfabriken wird der Medienfluss zu den Prozesstools exakt gesteuert. Rückdruckregelungen halten den Leitungsdruck konstant, auch bei schwankendem Volumenstrom durch individuell steuerbare Abgänge.
Das Regelventil GEMÜ C53 iComLine und die HydraLine Druckmessgeräte sorgen für präzise Kontrolle und hohe Prozesssicherheit.
© AP&S International GmbH
Das DFS-Mischsystem produziert Ammoniumhydroxid (NH₄OH) in höchster Reinheit (<10 ppt) für kritische Halbleiterprozesse. In Kooperation mit GEMÜ kommen CleanStar Ventile mit High-Flow-Körper zum Einsatz. Sie ermöglichen maximale Durchflussleistung, chemische Beständigkeit und kompromisslose Reinheit.
Das Ergebnis: stabile Prozesse, reduzierte Stillstandszeiten und höchste Produktsicherheit in der Anwendung.
© Diversified Fluid Solutions
Das Handling abrasiver Medien ist essenziell für die Halbleiterproduktion. Vom grobkörnigen Säge Slurry beim Siliziumschnitt bis zur feinen Polier Slurry im CMP Prozess verlangt jedes Medium höchste Sorgfalt, um spiegelglatte Wafer für die präzise Strukturierung zu erzeugen.
Die Versorgung mit CMP-Slurry stellt hohe Anforderungen an die Medienführung. Verwirbelungen können zu Partikelagglomerationen führen und die Filterleistung beeinträchtigen. Eine kompakte, strömungsoptimierte Lösung sorgt für gleichmäßige Verteilung und stabile Prozesse.
Mit den GEMÜ PC50 iComLine Ventilblöcken können Sie diese Verwirbelungen zuverlässig verhindern.
Nassprozesse sind ein zentraler Bestandteil der Halbleiterproduktion und stellen höchste Anforderungen an Anlagen und Komponenten. Während einfache Anwendungen geringere Reinheitsanforderungen haben, erfordern moderne Chipprozesse aggressive Chemikalien, Partikelfreiheit und chemische Beständigkeit. Hochreine Ventile aus PTFE/PFA sichern hier maximale Prozesssicherheit.
FOUPs transportieren Wafer zwischen Reinraumprozessen wie Lithografie, CMP und Ätzung. Um Partikel und AMC zu vermeiden, ist eine gründliche Reinigung unerlässlich. Die Anwendung erfordert prozesssicheres Mischen von Reinigungsmedien, Handling von Gasen und DI-Wasser sowie hochreine Fluorkunststoff-Komponenten in kompakter Bauweise für platzkritische Umgebungen.
Möglichkeiten zur Erfüllung dieser Anforderungen finden Sie im Anwendungsfall.
Während der Chipproduktion werden Chemiebäder kontinuierlich überwacht und nachdosiert, um Konzentration und Temperatur stabil zu halten.
Präzise Mess- und Regeltechnik von GEMÜ unterstützt Sie dabei eine exakte Steuerung, für gleichbleibend hohe Prozessqualität im Reinraum sicherzustellen.
© AP&S International GmbH
Für effiziente Reinigungsprozesse, z. B. bei FOUP- und EUV-Mask-Boxen, ist eine exakte und konstante Medientemperatur entscheidend. Hohe Temperaturen beschleunigen die Reinigung, erfordern aber präzises Mischen von DI-Hot-Wasser und Raumtemperatur.
GEMÜ bietet Ihnen hierfür spezielle Mischlösungen, die Prozessstabilität, Wiederholgenauigkeit und höchste Effizienz sicherstellen.
In der Halbleiterfertigung sind Lösemittel wie Isopropanol, Aceton oder NMP unverzichtbar, stellen aber hohe Anforderungen an Beständigkeit, Reinheit und Sicherheit.
Totraumminimierte Edelstahlventile und Mehrwege-Ventilblocksysteme erfüllen diese Anforderungen und gewährleisten ATEX-konformen Explosionsschutz sowie zuverlässige Prozesse für kritische Anwendungen.
In der Halbleiterindustrie werden organische Lösemittel wie Isopropanol, Aceton oder NMP für Reinigung und Fotolackentfernung eingesetzt.
Unsere Membranventile oder M-Block Lösungen aus Edelstahl erfüllen die hohen Anforderungen an Brand- und Explosionsschutz, Oberflächengüte und sichere Anschlüsse. Ideal für die präzise und sichere Lösemittelversorgung.
Geprüfte Qualität
Ihre Vorteile
Von Einzelkomponenten über auf Grundplatten montierte Schweißkonfigurationen bis hin zu Blocklösungen bieten wir ein breites Spektrum an Lösungen für Ihre Anwendung.
Dank langjähriger Zusammenarbeit mit führenden Halbleiterherstellern haben wir umfangreiches Know-how aufgebaut und nachhaltige Kundenbeziehungen gepflegt.
Dank unseres Reinraumwerks in Emmen (CH) gewährleisten wir die Einhaltung von DIN ISO 4644‑1 sowie höchste Produktions- und Montagequalität.
Unser Edelstahl-Portfolio an Membranventilen bietet Ihnen vielfältige Lösungen – von Einzelventilen bis hin zu Blocksystemen für organische Lösemittel.
