Des solutions pour les exigences les plus élevées.
L'industrie des semi-conducteurs nécessite d'atteindre un niveau maximal de sécurité de process et d'assurer à la fois résistance chimique et gestion fiable des fluides critiques. L'eau ultra-pure, les produits chimiques agressifs et les boues abrasives exigent des solutions robustes, de faible encombrement, optimisées pour l'utilisation en salle blanche et fonctionnant de manière fiable.
L'industrie des semi-conducteurs se caractérise par des exigences des plus élevées en matière de sécurité de process, résistance chimique et gestion fiable des fluides critiques. Citons notamment l'eau ultra-pure, les produits chimiques agressifs et les boues corrosives, qui nécessitent des solutions robustes restant fiables même en cas de fortes contraintes d'espace et de pureté.
Nous aidons nos clients à mettre en œuvre une gestion sûre des fluides pour les processus de traitement humide, ainsi pour que l'alimentation constante en eau ultra-pure et en fluides chimiques de process, et à planifier des systèmes d'alimentation rentables. Nos technologies destinées aux vannes et aux systèmes de mesure et de régulation permettent de gérer les processus en réduisant au minimum la présence de particules, d'atteindre un haut niveau de résistance des matériaux et d'obtenir une régulation précise. Nous jetons ainsi les bases de processus stables et reproductibles dans les environnements de fabrication sensibles.
Dans le cadre de la production high-tech, l'alimentation en produits chimiques ultra-purs joue un rôle essentiel pour la qualité et la sécurité de process. Les fluides agressifs des processus de nettoyage et de gravure impliquent des exigences élevées en termes de résistance des matériaux et de pureté. Du mélange des produits chimiques au drainage, l'utilisation de systèmes fiables est cruciale pour parvenir à une fabrication robuste et efficace.
Dans les usines de semi-conducteurs, le débit de fluide vers les outils de process est piloté avec une parfaite précision. Des dispositifs de régulation de la pression de retour maintiennent à un niveau constant la pression dans la tuyauterie, même lors des variations de débit volumétrique dues à des sorties contrôlables séparément.
La vanne de régulation GEMÜ C53 iComLine et les appareils de mesure de la pression HydraLine assurent un contrôle précis et un haut niveau de sécurité de process.
Le système de mélange DFS produit de l'hydroxyde d'ammonium (NH₄OH) d'une pureté irréprochable (<10 ppt) pour les processus critiques des semi-conducteurs. En coopération avec GEMÜ, des vannes CleanStar à corps haut débit y sont utilisées. Elles permettent de combiner débit maximal, résistance chimique et pureté sans compromis.
Le résultat : des processus stables, des temps d'arrêt réduits et un niveau maximal de sécurité des produits dans l'application.
La gestion des fluides abrasifs joue un rôle essentiel dans la production de semi-conducteurs. Des boues de sciage à gros grains lors de la coupe du silicium jusqu'aux boues fines lors du processus de polissage mécanochimique, chaque fluide exige le plus grand soin afin d'obtenir des wafers parfaitement lisses, pour une structuration précise.
L'alimentation en boues de polissage mécanochimique doit répondre à de hautes exigences en matière de gestion des fluides. Des tourbillons peuvent entraîner une agglomération de particules et une dégradation des performances de filtrage. Une solution compacte à débit optimisé assure une répartition homogène et des processus stables.
Les blocs multivoies GEMÜ PC50 iComLine vous permettent de prévenir efficacement la formation de ces tourbillons.
Élément clé de la production de semi-conducteurs, les processus de traitement humide soumettent les installations et les composants à des exigences du plus haut niveau. Alors que les applications simples sont peu exigeantes en matière de pureté, les processus modernes de fabrication de puces exigent des produits chimiques agressifs, une absence totale de particules et une résistance chimique appropriée. Les vannes ultra-pures en PTFE/PFA procurent une sécurité de process maximale dans ce domaine.
Les FOUP assurent le transport des wafers entre les processus en salle blanche tels que la lithographie, le polissage mécanochimique et la gravure. Un nettoyage méticuleux est indispensable pour éviter la présence de particules et toute contamination moléculaire aéroportée. L'application nécessite un processus sûr pour le mélange des fluides de nettoyage tout comme la gestion des gaz et de l'eau déionisée, ainsi que des composants en plastique fluoré ultra-purs de taille compacte dans les environnements où chaque centimètre compte.
Le cas d'application vous présente des possibilités de répondre à ces exigences.
Pendant la production de puces, les bains chimiques font continuellement l'objet d'une surveillance et d'un ajustage du dosage afin de maintenir la concentration et la température à un niveau constant.
Les systèmes de mesure et de régulation précis conçus par GEMÜ vous aident à assurer un contrôle parfaitement précis, pour obtenir des processus de qualité constante en salle blanche.
© AP&S International GmbH
Pour obtenir des processus de nettoyage efficaces, par ex. dans des FOUP et des boîtes équipées de masques UVE, il est primordial de maintenir la température du fluide à un niveau précis et constant. Si les températures élevées accélèrent le nettoyage, elles exigent un mélange précis de l'eau chaude déionisée et de la température ambiante.
GEMÜ vous propose pour cela des solutions de mélange spécifiques qui assurent stabilité des processus, répétabilité et efficace maximale.
Si les solvants tels que l'isopropanol, l'acétone ou la NMP sont indispensables lors de la fabrication de semi-conducteurs, ils impliquent des exigences élevées en matière de résistance, pureté et sécurité.
Des exigences auxquelles il est possible de répondre avec les vannes en inox à zones mortes réduites et les systèmes de bloc de vannes multivoies, qui garantissent par ailleurs une protection contre les explosions conforme à la réglementation ATEX ainsi que des processus fiables pour les applications critiques.
Dans l'industrie des semi-conducteurs, les solvants organiques tels que l'isopropanol, l'acétone ou la NMP sont utilisés pour le nettoyage et le retrait de la résine photosensible.
Nos vannes à membrane et nos solutions de blocs multivoies en inox satisfont à des exigences strictes en matière de protection contre les incendies et les explosions, de qualité des surfaces et de possibilités de raccordement fiable. L'idéal pour une alimentation en solvants précise et fiable.
Qualité certifiée
Des composants individuels aux solutions de blocs, en passant par les configurations de vannes soudées montées sur des plaques de base : nous proposons un vaste éventail de solutions pour votre application.
Une collaboration de longue date avec des leaders de la fabrication de semi-conducteurs nous a permis d'acquérir un riche savoir-faire et d'établir des relations durables avec
Grâce à notre usine à salle blanche d'Emmen (CH), nous garantissons le respect de la norme DIN ISO 4644‑1 ainsi qu'une qualité maximale de production et de montage.
Notre gamme de vannes à membrane en inox vous offre de multiples solutions : des vannes individuelles jusqu'aux systèmes de blocs pour solvants organiques.
