Per l'unità di produzione di un istituto di ricerca, la qualità dell'acqua pura deve essere ottimizzata. Nell'impianto vengono prodotti wafer speciali e per esperimenti. L'acqua necessaria a tale scopo trova applicazione nelle varie fasi di produzione dei wafer. Per questi particolari criteri di utilizzo, la qualità dell'acqua pura utilizzata in relazione al grado di libertà delle particelle e agli ioni nocivi non è ottimale. Poiché il numero delle molecole residue nocive presenti nell'impianto potrebbe essere troppo elevato, occorre procedere a un ulteriore post-lavaggio dell'acqua preventivamente depurata.