GEMÜ P35 für hochreine Anwendungen

Hohe Durchflussleistung auf kleinem Raum

Mit dem 2/2-Wege-Membransitzventil GEMÜ P35 bietet GEMÜ eine kompakte und leistungsfähige Lösung für hochreine Anwendungen in der Halbleiterindustrie. Das Ventil verbindet eine platzsparende Bauweise mit hohen Durchflusswerten und eignet sich damit insbesondere für Prozesstools, bei denen eine effiziente Nutzung des verfügbaren Bauraums entscheidend ist. In der Halbleiterindustrie stellen komplexe Prozesse und anspruchsvolle Reinraumbedingungen hohe Anforderungen an die eingesetzten Komponenten. Gleichzeitig spielt die effiziente Nutzung des verfügbaren Bauraums eine zentrale Rolle. Genau hier setzt das GEMÜ P35 an: Seine besonders kompakte Bauweise ermöglicht eine platzsparende Integration, während hohe Kv-Werte einen hohen Mediendurchfluss gewährleisten. Mit einem Betriebsdruck von bis zu 6 bar ist das Ventil speziell auf die Anforderungen von Prozesstool-Anwendungen in der Halbleiterindustrie ausgelegt.

Plug Diaphragm Technologie für hohe Prozesssicherheit

Ein zentrales Merkmal des GEMÜ P35 ist die Plug Diaphragm Technologie (PD-Technologie). Sie trennt Medium und Antrieb hermetisch voneinander und trägt damit zu einer hohen Prozesssicherheit bei. Gleichzeitig ermöglicht das flache Design der Plug Diaphragm eine effiziente Bauraumnutzung und minimiert Toträume. Die medienberührenden Komponenten aus modifiziertem PTFE und PFA sind für aggressive Medien ausgelegt und sorgen für die notwendige Reinheit. Das GEMÜ P35 ist in den Antriebsgrößen 1 und 2 sowie in den Nennweiten ¼ bis ¾ Zoll erhältlich. Für die Integration in unterschiedliche Anlagenkonzepte stehen Flare- und Nexus Connect®-Anschlüsse zur Verfügung.

Bis zu 55 Prozent weniger Volumen bei höheren Kv-Werten

Als Weiterentwicklung des GEMÜ C50 eröffnet das GEMÜ P35 zusätzliche Möglichkeiten für die Integration in kundenspezifische Mehrwegeventilblöcke GEMÜ PC50. Im Vergleich zur Integration eines GEMÜ C50 in einen Mehrwegeventilblock GEMÜ PC50 lassen sich mit dem GEMÜ P35 Volumenreduzierungen von bis zu 55 Prozent bei gleichzeitig höheren Kv-Werten erzielen. Damit verbindet das GEMÜ P35 eine kompakte Bauweise mit hoher Durchflussleistung und Prozesssicherheit und bietet eine leistungsfähige Lösung für anspruchsvolle Anwendungen in der Halbleiterindustrie.