Производственная база одного научно-исследовательского учреждения требует оптимизации качества сверхчистой воды. На его оборудовании производятся специальные и экспериментальные пластины для электронной промышленности. При этом вода используется на самых различных этапах производства пластин. В связи с наличием специальных требований сверхчистая вода обычного качества оказывается непригодной из-за содержания посторонних частиц и вредных ионов. Так как количество содержащихся в среде вредных остаточных молекул может быть слишком высоким, необходима повторная очистка уже очищенной воды.