Tillverkning av mikrochips ställer höga krav på renhet, både i arbetsmedier och i miljön. Ju mer avancerade halvledarna är desto lägre är de tillåtna gränsvärdena för partiklar och kemiska kontaminationer. Detta påverkar både wafer-produktionen, där kiselskivor etsas och sågas ut till enskilda mikrochips, och tillverkningen av tillsatsmaterial. Så kallade wet benches används i produktionen av wafers. Ytan på kiselskivorna slipas, kretsarna etsas med högrena syror och blandsyror och sköljs av med ultrarent vatten.