GEMÜ P35 pour les applications haute pureté

Capacité de débit élevée dans un espace restreint

Avec la vanne à clapet à membrane 2/2 voies GEMÜ P35, GEMÜ propose une solution performante et compacte pour les applications haute pureté dans l'industrie des semi-conducteurs. La vanne allie un encombrement réduit et des valeurs de débit élevées. Elle convient donc en particulier aux outils de process qui exigent de tirer efficacement parti de l'espace de montage disponible. Dans l'industrie des semi-conducteurs, les composants utilisés sont soumis à des exigences élevées en raison des process complexes et des conditions difficiles propres aux salles blanches. Parallèlement, l'utilisation efficace de l'espace de montage disponible joue un rôle essentiel. C'est précisément là qu'intervient GEMÜ P35 : sa structure particulièrement compacte permet une intégration sans encombrement, tandis que des valeurs de Kv élevées garantissent un haut débit de fluide. Avec une pression de service atteignant jusqu'à 6 bar, la vanne est conçue pour répondre aux exigences des applications des outils de process dans l'industrie des semi-conducteurs.

Technologie Plug Diaphragm pour une sécurité de process élevée

L'une des principales caractéristiques de GEMÜ P35 est la technologie Plug Diaphragm (technologie PD). Conçue pour séparer hermétiquement le fluide et l'actionneur, elle contribue à procurer un haut niveau de sécurité de process. Parallèlement, la conception plate de la membrane à obturateur permet une utilisation efficace de l'espace de montage et réduit les zones mortes. Les composants en contact avec le fluide, fabriqués en PTFE modifié et en PFA, sont conçus pour les fluides agressifs et procurent la pureté nécessaire. GEMÜ P35 est disponible dans les tailles d'actionneur 1 et 2 ainsi que dans les diamètres nominaux ¼ à ¾ de pouce. Des raccords flare et Nexus Connect® sont proposés pour l'intégration dans différents concepts d'installation.

Réduction du volume jusqu'à 55 % et valeurs de Kv plus élevées

Fruit du perfectionnement de GEMÜ C50, GEMÜ P35 offre des possibilités supplémentaires d'intégration dans des blocs de vannes multivoies GEMÜ PC50 personnalisés. En comparaison avec l'intégration de GEMÜ C50 dans un bloc de vannes multivoies GEMÜ PC50, GEMÜ P35 procure des réductions de volume atteignant jusqu'à 55 % parallèlement à des valeurs de Kv plus élevées. GEMÜ P35 combine ainsi un encombrement réduit avec une capacité de débit et une sécurité de process élevées, et offre une solution performante pour les applications difficiles dans l'industrie des semi-conducteurs.